受賞者

工学専攻　（岩本・本多研究室）

朝熊 紀文

受賞名

第33回日本MRS年次大会 若手奨励賞

（第33回日本MRS年次大会）

受賞の内容

「ニッケル/窒化ケイ素ヘテロ界面におけるNi d バンドセンターのダウンシフト」

窒化ケイ素はエンジニアリングセラミックスとして広く応用されていますが、優れた触媒担体としても潜在的可能性を秘めています。本研究は、第一原理計算と実験の協奏によりニッケルと窒化ケイ素担体のヘテロ界面における電子的相互作用を調査し、従来の触媒担体として汎用な酸化ケイ素には見られない特異な電子的相互作用とそれが生み出す性能を明らかにしたことが、新規性を有する研究成果として評価されました。

　　　図1．Ni/窒化ケイ素の界面モデル(計算)　　 　　　　　図2．Ni/窒化ケイ素のTEM像(実験)

今後の抱負

このような賞を頂き大変光栄に思います。日々ご指導いただいている、岩本先生、田村先生、本多先生、浅香先生、Samuel Bernard先生、Assil Bouzid先生ならびに多田先生に感謝しております。また本研究は、JST 次世代研究者挑戦的研究プログラム JPMJSP2112 の支援を受けたものです。関係者各位に深く感謝しております。この受賞を機に、より一層研究に邁進して参ります。